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老师,您好!


我再浏览与透镜相关的案例时对相关的程序有些不理解,想请您解答一下,具体如下:

一、数值孔径对传播方向的筛选

在 Lithography using binary mask (https://support.lumerical.com/hc/en-us/articles/360042256473)案例中

分析组中脚本数值孔径对角谱限制作用是以如下方式写的,

filter = Ux^2+Uy^2

而在 Simplified microscopic imaging (https://support.lumerical.com/hc/en-us/articles/360042260213-Simplified-microscopic-imaging)案列中

则是以如下方式

filter = real(sqrt(Ux^2+Uy^2))

第一个疑问是,farfieldux该命令的结果代表什么呢?是方向余弦吗?

第二个疑问是,Ux,与Uy都是先通过计算监视器(物平面)farfieldux,farfielduy,再通过meshgrid命令得到,为什么对于数值孔径有不同的表示?