jongh1019
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안녕하세요~ 

먼저 feedback에 대해 감사의 말씀 드립니다.

제가 simulation을 진행하기 위해 material index를 설정해준 방식에는 아래와 같습니다.

(1) 논문을 통해 알려진 온도별 굴절률을 설정(온도 정보는 없음)
-->3D sampled data 또는 nk material를 바탕으로 30,50,70,90℃ 각각 굴절률을 설정

(2) index perturbation을 바탕으로 한 material 설정
-->30℃일때 굴절률을 base material로하고 TOC(dn/dT)를 설정
FDTD simulation temperature를 30,50,70,90℃에 맞춰서 설정

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(1) 방식을 통해서 선형적인 Neff 값을 얻을 수 없었으며 이에 따른 공진파장변화(resononace wavelength shift)를 확인할 수 없었습니다.

 

이에 비해 (2) 방식을 선택했을때에는 선형적인 Neff 값을 얻을 수 있었으며, 수식를 통해 알 수 있듯이 온도에 따라 선형적으로 증가하는 공진파장을 확인할 수 있었습니다.

엔지니어님께서 말씀하셨듯이 (1)방식에서는

Neff 값이 선형적으로 증가하는 것이 아니라 비선형적으로 증가했기 때문에 원하는 결과를 얻을수 없었던것 같습니다.

아래는 port를 통해 파악한 waveguide의 Neff 이며, 이를 (1)과 (2)방식에 따라 비교한 plot 입니다. 

(1): previous --> Neff의 비선형 증가 & (2): Revised --> Neff의 선형 증가

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제가 문의드리고자 하는 내용은 다음과 같습니다.

(1)방법과 (2)번 방법은 서로 Material index를 설정해주는 방식이 다르지만,

실제로 입력되는 materialrefractive index 같은 상황입니다.

하지만 port를 통해서 계산되는 Neff(Effective refractive index)과 온도별 index의 증가분 (dn/dT)는

두 방식 사이에 차이가 있습니다.

즉, 두 방식 모두 입력된 refractive index는 같지만, 계산되는 Effective index는 차이가 나고 있습니다.

저는 refractive index가 같다면 계산되는 Effective index는 같아야한다고 생각합니다.

 

물리적인 관점과 simulation의 관점에서 어떠한 점 때문에 

같은 굴절률이 입력됨에도 불구하고 Neff가 다르게 계산되는지 문의드립니다.

 

긴 글 읽어주어서 감사합니다.