Photonics – Korean

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Lumerical device ‘Implant doping’

    • JH_Kim
      Subscriber
      안녕하세요, lumerical device에서 implant doping setting 관련 궁금한 것이 있어서 질문드립니다.

      implant doping에서 depth에 따라 density를 실제 공정 후 측정 data와 동일하게 설정해주고 싶은데, lumerical device에서 기본적으로 제공하는 distribution function인 gaussian과 pearson4 두 가지로는 lumerical에서 제공하는 implant 관련 설명을 참조하여 여러 변수들을 바꿔도 실제 doping profile과 완전히 동일하게 설정하는 것이 불가능했습니다.

      제가 원하는대로 depth에 따른 density를 customize할 수 있는 방법이 있나요?

      감사합니다. 
    • Shin-Sung Kim
      Ansys Employee
      Implant doping 은 implant 공정 자체와 관련이 있는 parameter 를 활용하여 doping profile 을 지정하는 것으로, 이와 같은 공정과는 상관없이, 위치에 따른 doping density 데이타를 실험으로 얻어서 적용하고 자한다면 import doping 개체를 활용하면 됩니다. 이 과정을 스크립트로 하고 싶은 경우에는, addimportdope 이라는 명령어를 이용하면 됩니다.
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