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[WD W]

附件中的模型是在官网pump_probe.fsp模型的基础上添加了二氧化硅和金属Al层。用532nm的平面泵浦光入射，通过扫描泵浦光的振幅（2e6~4e6）观测在659nm附近光的反射增强。

在该模型中，扫描结果绘图如下，有三个问题：

1.在图1a中的反射谱，为什么反射峰的强度并没有随着入射光振幅的增大而逐步增大，而是出现上下跳动？
2.在图1b中，为什么反射峰的强度在3.75e6的时候出现异常增大，线宽异常减小？

3. 当amplitude of pump =2.0e6的时候，在图2（b）中粒子数并没有反转，为什么图2（a）中在659nm附近的反射峰异常增大？

[Guilin Sun]

A1:可能是饱和效应？可能需要查看原始方程。

A2： 1b 结果并没有在1a中出现，确定是同一个器件相同的参数只是泵浦强度不同？

A3： 反射率是绝对值还是相对值？ 如果是相对值，可能问题比较大，因为泵浦光源仿真光谱中激光频率的强度异常低，做比值计算的话可靠性不高。

至于说谱宽，你需要定量，不能从图形中猜。